تاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع بر خواص ساختاری و اپتیکی لایه‌های نازک اکسید ایندیم تهیه شده به روش تبخیر با باریکه الکترونی

Authors: not saved

Abstract:

در این کار تجربی لایه‌های نازک اکسید ایندیم آلاییده با اکسید قلع (ITO) با ترکیب‌های مختلفی از 60 تا wt%95 اکسید ایندیم و 40 تا wt%5 اکسید قلع با استفاده از روش تبخیر با باریکه الکترونی بر روی زیرلایه‌های شیشه‌ای نهشته شدند. لایه‌ها پس از نهشت، به مدت 3 ساعت در هوا در دمای Cْ450 تحت عملیات حرارتی قرار گرفتند. تاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع با تغییر غلظت آن از 5 تا wt%40 بر روی خواص ساختاری و اپتیکی این لایه‌ها بررسی و مشاهده شد که با افزایش غلظت آلاینده تا wt%20، گاف باندی و اندازه دانه‌ها افزایش می‌یابد. بیشترین گاف انرژی و بیشترین اندازه دانه به ترتیب برابر eV71/3 و nm23 در لایه‌های با wt%20 اکسید قلع برآورد گردید.

Upgrade to premium to download articles

Already have an account?login

similar resources

تاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع بر خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیم تهیه شده به روش تبخیر با باریکه الکترونی

در این کار تجربی لایه های نازک اکسید ایندیم آلاییده با اکسید قلع (ito) با ترکیب های مختلفی از 60 تا wt%95 اکسید ایندیم و 40 تا wt%5 اکسید قلع با استفاده از روش تبخیر با باریکه الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای نهشته شدند. لایه ها پس از نهشت، به مدت 3 ساعت در هوا در دمای cْ450 تحت عملیات حرارتی قرار گرفتند. تاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع با تغییر غلظت آن از 5 تا wt%40 بر روی خواص ساختاری و اپتیک...

full text

بررسی خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیم قلع

در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیم قلع (ITO) به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای. با ضخامت‌های اسمی 50، 100، 170 و 250 نانومتر، با نرخ انباشت ثابت 10/0 نانومتر بر ثانیه لایه نشانی شده اند. دمای زیرلایه ها در خلال لایه نشانی در دمای 400 درجه سانتیگراد ثابت نگه داشته شد. از تکنیک های پراش پرتو ایکس (XRD) و بازتاب سنجی اشعه ایکس (XRR) برای آنالیز ساختاری لایه های نازک اس...

full text

بررسی خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیم قلع

در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیم قلع (ito) به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای. با ضخامت های اسمی 50، 100، 170 و 250 نانومتر، با نرخ انباشت ثابت 10/0 نانومتر بر ثانیه لایه نشانی شده اند. دمای زیرلایه ها در خلال لایه نشانی در دمای 400 درجه سانتیگراد ثابت نگه داشته شد. از تکنیک های پراش پرتو ایکس (xrd) و بازتاب سنجی اشعه ایکس (xrr) برای آنالیز ساختاری لایه های نازک اس...

full text

تاثیر آلاینده سرب بر خواص نوری لایه‌های اکسید ایندیم لایه‌نشانی شده به روش انباشت الکتروشیمیایی

لایه‌های نانوساختار اکسید ایندیم (In2O3) خالص و آلاییده با مقادیر مختلف از سرب، به روش انباشت الکتروشیمیایی لایه‌نشانی شدند. نتایج حاصل از آنالیز الگوی پراش، وجود فاز اکسید ایندیم را در دو فاز بلوری مکعبی و رومبوهدرال تایید کردند. تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی نشان می‌دهند که مواد رشد داده دارای ابعاد نانومتری بوده و اندازه آنها در محدوده nm 81-45 می‌باشد. طیف نور تابناکی نیز باندهای گسیلی در...

full text

تأثیر غلظت و ضخامت آلاینده آلومینیوم بر خواص ساختاری، اپتیکی و الکتریکی لایه های نازک دی اکسید قلع آلاییده با آلومینیوم

در این کار تجربی لایههای نازک دیاکسید قلع آلاییده با آلومینیوم با ترکیبهای مختلفی از 5 تا 10 درصد جرمی آلومینیوم و 95 تا 90 درصد جرمی دیاکسید قلع بوسیله تبخیر با باریکه الکترونی بر روی زیرلایههای شیشهای نهشته شدند. سپس تاثیر غلظت آلاینده آلومینیوم و ضخامت بر خواص الکتریکی، اپتیکی و ساختاری این لایهها بررسی شد. خواص این لایههای نازک بوسیله پراش پرتو X، اسپکتروفوتومتر UV- VIS...

full text

مطالعه مقایسه‌ای خواص ساختاری فیلم‌های نازک اکسید روی، تهیه شده با روش سل- ژل

full text

My Resources

Save resource for easier access later

Save to my library Already added to my library

{@ msg_add @}

Journal title

علوم و مهندسی سطح ایران

volume 8 issue 14

pages 1- 5

publication date 2012-08-22

unfollow

{@ msg @}

By following a journal you will be notified via email when a new issue of this journal is published.

Keywords

اکسید ایندیم آلاییده با قلع عملیات حرارتی گاف انرژی اندازه دانه

Hosted on Doprax cloud platform doprax.com